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      一、PVD工藝

      PVD(Physical Vapor Deposition),即物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition),是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

      PVD相對電鍍的優(yōu)勢

      1、顏色豐富,裝飾性強(qiáng)

      可以讓衛(wèi)浴產(chǎn)品附上其他顏色,相對于傳統(tǒng)金屬原色,讓廚衛(wèi)空間更加與眾不同。另外,表面處理工藝質(zhì)感較強(qiáng),讓裝修顯得更加高檔。

      2、生產(chǎn)過程不產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)

      在涂層前處理中,采用環(huán)保型的金屬清洗劑對工件表面進(jìn)行去油和脫脂處理,烘干后工件放入真空室中進(jìn)行PVD鍍鉻處理。

      鍍鉻過程以高純金屬鉻為原料,通入氮?dú)夂蜌鍤獾绕垦b氣體,在沉積鉻復(fù)合涂層的專用設(shè)備中,采用先進(jìn)的等離子體源輔助電弧-濺射等先進(jìn)技術(shù),通過電場、磁場、等離子體和離子束流的作用,發(fā)生化學(xué)反應(yīng),實(shí)現(xiàn)了鉻復(fù)合涂層的生成。

      使用的原材料價廉易得,國內(nèi)可以大量供應(yīng)。在整個工藝生產(chǎn)過程中,沒有采用任何有毒有害的原料,是完全無污染的綠色環(huán)保生產(chǎn)技術(shù)。


      3、優(yōu)越的涂層性能

      與電鍍鉻相比,PVD鉻涂層的硬度更高。電鍍鉻的硬度一般為Hv800~900,而PVD方法可以達(dá)到Hv1500以上,同時耐磨性遠(yuǎn)優(yōu)于電鍍鉻。PVD方法在涂層制備過程中涂層致密,沒有孔洞,不會產(chǎn)生穿透性裂紋,導(dǎo)致腐蝕介質(zhì)從表面滲透至界面而腐蝕基體,造成鍍層表面出現(xiàn)銹斑甚至剝落。

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